一、犯人立功減刑的情形有哪些?

犯人立功減刑的情形有：犯罪分子的重大立功表現(xiàn)是真實存在的，并且滿足重大立功的表現(xiàn);犯罪分子的態(tài)度審核。犯罪分子的服刑年限審核;人民法院的審理，將各方面的證據(jù)遞交人民法院之后，法院經(jīng)過多方調(diào)查證實情況屬實，那么法院將會依照法定程序進行減刑。

二、犯人專利立功減刑標準應怎么判斷?

《刑法》第七十八條第三款和《監(jiān)獄法》第二十九條第三款規(guī)定：服刑人員獲得發(fā)明專利可以得到減刑等獎勵。因為如果有發(fā)明創(chuàng)造或重大技術革新的，可以算是立功表現(xiàn)(按專利產(chǎn)生的效益、貢獻大小可獲得如重大立功，立功，或者嘉獎、表揚等)，有立功表現(xiàn)就可以作為減刑的必要條件、減刑幅度計算的依據(jù)，但不是充分條件，為此申請專利是可以得到減刑的。

正因為實用新型專利和外觀設計專利不需要實質(zhì)審查，經(jīng)過國家知識產(chǎn)權局初步審查沒有發(fā)現(xiàn)駁回理由的即可授予專利，所以，有部分在押犯人通過“申請專利”來獲取減刑的可能，從時間上來說，一個實用新型專利從申請到授權只需要6-9個月，費用一般也僅僅為2000到3000塊錢，一些在押犯人完全可以“委托”外面的專利代理公司，替其“創(chuàng)造”批量的實用新型專利，外面的專利代理公司也非?！霸敢狻迸俊爸圃臁币慌鷮嵱眯滦蛯＠运^“合理合法”來獲取減刑的可能，而審核的監(jiān)獄和法官完全可能被蒙蔽。

《刑法》第七十八條及《監(jiān)獄法》第二十九條均規(guī)定，有發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術革新的，屬于重大立功，應當減刑。

最高人民法院《關于辦理減刑、假釋案件具體應用法律若干問題的規(guī)定》(法釋〔2012〕2號)第四條規(guī)定，有發(fā)明創(chuàng)造或者重大技術革新的，應當認定為有重大立功表現(xiàn)。

民事主體若是實施了犯罪行為，那么極有可能會被判處有期徒刑，若是在服役期間有重大立功，或者是表現(xiàn)良好，是可以向當?shù)氐乃痉C關提出減刑的請求的。通常情形下，最多能減刑一半的處罰，但是若是其滿足條件，但是自己不提出，不會被減刑。

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